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森蘭國際藝術中心

建設時間: 建設地點:
項目位于上海外高橋新市鎮東溝楔形綠地D06-05地塊,建設內容為美術館、藝術酒店、藝術商貿區、多功能活動中心以及兩層地下室,為外高橋地區一座集酒店、藝術中心、商場等功能的大型綜合體。項目總面積約9萬平方米,其中地下約4.5萬平方米,地上約4.5萬平方米,容積率1.43,建筑密度35%,綠地率35%,機動車停車310輛,建筑高度23.8m。

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